2023年7月15日，由浙江大学吴新科教授、邵帅副教授、陈烨楠研究员、闫海东副研究员、董泽政博士等组成的ZJU-PMIC技术专家团队赴英诺赛科（苏州）半导体有限公司（下称“英诺赛科”），与英诺赛科技术专家们就氮化镓领域的研究方向、行业痛点及发展趋势等方面进行深入交流并探讨合作新机。

ZJU-PMIC团队抵达英诺赛科后，首先对英诺赛科的产品历程、技术路线作了相应了解；并应邀参观了全球首个8英寸硅基氮化镓芯片工艺线，详细了解其产品的制造工艺和技术线路。

在随后的座谈会上，吴新科教授分享了ZJU-PMIC发展情况、研究成果及当下的科研方向；英诺赛科技术专家则就企业产品、应用领域及市场前景作了一一介绍。而后，双方就氮化镓技术发展趋势、未来市场需求等话题展开讨论，共同发掘未来合作潜力。

此次交流不仅加强了ZJU-PMIC与会员企业英诺赛科之间的合作关系，还为双方开启了更广阔的合作前景。双方一致表示，将以此次交流为契机，充分挖掘各自潜在优势，进一步拓宽合作领域，促进联盟与会员间合作共赢，共同推动行业高质量发展。